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10納米 2019←工藝節點→2029 1.4納米,英特爾最新路線圖曝光,支持節點回退

2019-12-11 11:11:48 來源:EETOP
ASML首席執行官在主題演講中展示了英特爾在前不久的光刻會議上的PPT,透漏了英特爾的工藝節點最新路線圖。

 

英特爾的制造工藝節點技術預計將以2年為周期,從2019年的10nm開始,到2021年的7nm EUV,2023年的5nm,2025年的3nm,2027年的2nm,2029年的1.4nm。1.4納米這是第一次被提到。這代表了英特爾的發展方向,1.4納米是什么概念?它僅僅相當于12個硅原子。

+,++和工藝向后移植(回退)

正如Intel前面所說的,在每個進程節點之間都有一個迭代的+和++版本,以便從每個進程節點提取更高的性能。英特爾相信,他們可以在一年的周期內做到這一點,但也有重疊的團隊,以確保一個完整的進程節點可以與另一個節點重疊。

(back porting)。在幻燈片中,它顯示了英特爾將允許工作流程,以便任何第一代7nm設計都可以反向移植到10 +++,任何第一代5nm設計都可以反向移植到7 ++,然后從3nm移植到5++,2nm至3 ++等。有人可能會說,此路線圖可能對日期沒有嚴格要求-我們已經看到英特爾在10nm制程已經花費了很長的時間,所以期望公司每年更新一次+,兩年更新一次主要過程技術節點將會是一個非常樂觀和積極的節奏策略。

開發研究

在這次IEDM會議上有很多關于5nm制程的討論,因此其中的一些改進(如制造、材料、一致性等)最終將在英特爾的5nm制程中實現,這取決于他們與哪個設計公司合作(比如應用材料公司)。值得注意的是,5nm被列為2023節點,大約在這個時候,ASML將開始銷售其“HighNA”EUV光刻機。

值得一提的是,根據這張幻燈片的標題,英特爾仍然相信摩爾定律。只是不要問它要花多少錢。(原文鏈接:https://www.anandtech.com/show/15217/intels-manufacturing-roadmap-from-2019-to-2029)

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